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|---|---|---|---|---|
| 1.4937449.pdf | 8.29 MB | Adobe PDF | 見る/開く |
| タイトル: | Molecular dynamics simulations of Si etching in Cl- and Br-based plasmas: Cl(+) and Br(+) ion incidence in the presence of Cl and Br neutrals |
| 著者: | Nakazaki, Nobuya Takao, Yoshinori Eriguchi, Koji    https://orcid.org/0000-0003-1485-5897 (unconfirmed)Ono, Kouichi |
| 著者名の別形: | 中崎, 暢也 鷹尾, 祥典 江利口, 浩二 斧, 高一 |
| 発行日: | 18-Dec-2015 |
| 出版者: | AIP Publishing |
| 誌名: | Journal of Applied Physics |
| 巻: | 118 |
| 号: | 23 |
| 論文番号: | 233304 |
| 著作権等: | © 2015 AIP Publishing LLC. This article may be downloaded for personal use only. Any other use requires prior permission of the author and AIP Publishing. The following article may be found at http://scitation.aip.org/content/aip/journal/jap/118/23/10.1063/1.4937449 |
| URI: | http://hdl.handle.net/2433/203166 |
| DOI(出版社版): | 10.1063/1.4937449 |
| 出現コレクション: | 学術雑誌掲載論文等 |
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