Molecular depth profiling of multilayer structures of organic semiconductor materials by secondary ion mass spectrometry with large argon cluster ion beams

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http://hdl.handle.net/2433/108954

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タイトル:	Molecular depth profiling of multilayer structures of organic semiconductor materials by secondary ion mass spectrometry with large argon cluster ion beams
著者:	Ninomiya, Satoshi Ichiki, Kazuya Yamada, Hideaki Nakata, Yoshihiko Seki, Toshio https://orcid.org/0000-0002-0834-1657 (unconfirmed) Aoki, Takaaki https://orcid.org/0000-0002-5926-4903 (unconfirmed) Matsuo, Jiro https://orcid.org/0000-0003-0684-3677 (unconfirmed)
発行日:	2009
出版者:	JOHN WILEY & SONS LTD
誌名:	RAPID COMMUNICATIONS IN MASS SPECTROMETRY
巻:	23
号:	20
開始ページ:	3264
終了ページ:	3268
URI:	http://hdl.handle.net/2433/108954
DOI(出版社版):	10.1002/rcm.4250
リンク:	Web of Science
出現コレクション:	英文論文データベース

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