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タイトル: High electron mobility achieved in n-channel 4H-SiC MOSFETs oxidized in the presence of nitrogen
著者: Zippelius, B.
Beljakowa, S.
Krieger, M.
Pensl, G.
Reshanov, S. A.
Noborio, M.
Kimoto, T.  kyouindb  KAKEN_id  orcid https://orcid.org/0000-0002-6649-2090 (unconfirmed)
Afanas'ev, V. V.
発行日: 2009
出版者: WILEY-V C H VERLAG GMBH
誌名: PHYSICA STATUS SOLIDI A-APPLICATIONS AND MATERIALS SCIENCE
巻: 206
号: 10
開始ページ: 2363
終了ページ: 2373
URI: http://hdl.handle.net/2433/109590
DOI(出版社版): 10.1002/pssa.200925089
リンク: Web of Science
出現コレクション:英文論文データベース

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