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| ファイル | 記述 | サイズ | フォーマット | |
|---|---|---|---|---|
| 1.3562784 .pdf | 2.73 MB | Adobe PDF | 見る/開く |
| タイトル: | PIC-MCC Simulations of Capacitive RF Discharges for Plasma Etching |
| 著者: | Takao, Yoshinori Matsuoka, Kenji Eriguchi, Koji    https://orcid.org/0000-0003-1485-5897 (unconfirmed)Ono, Kouichi |
| 著者名の別形: | 鷹尾, 祥典 松岡, 健二 江利口, 浩二 斧, 高一 |
| キーワード: | plasma etching transport phenomena collision processes numerical analysis |
| 発行日: | 20-May-2011 |
| 出版者: | American Institute of Physics |
| 誌名: | AIP Conference Proceedings |
| 巻: | 1333 |
| 号: | 1 |
| 開始ページ: | 1051 |
| 終了ページ: | 1056 |
| 記述: | 27TH INTERNATIONAL SYMPOSIUM ON RAREFIED GAS DYNAMICS : Pacific Grove, California, (USA), 10–15 July 2010 |
| 著作権等: | ©2011 American Institute of Physics |
| URI: | http://hdl.handle.net/2433/141787 |
| DOI(出版社版): | 10.1063/1.3562784 |
| 出現コレクション: | 学術雑誌掲載論文等 |
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