Embedded Microstructure Fabrication Using Developer-Permeability of Semi-Cross-Linked Negative Resist

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http://hdl.handle.net/2433/146623

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タイトル:	Embedded Microstructure Fabrication Using Developer-Permeability of Semi-Cross-Linked Negative Resist
著者:	Hirai, Yoshikazu https://orcid.org/0000-0003-0835-7314 (unconfirmed) Sugano, Koji Tsuchiya, Toshiyuki https://orcid.org/0000-0002-7846-5831 (unconfirmed) Tabata, Osamu
キーワード:	Chemically amplified resist cross-linking reaction embedded microchannels microfluidics microelectromechanical systems (MEMS) photoresist polymer microstructures three-dimensional microfabrication UV lithography
発行日:	2010
出版者:	IEEE-INST ELECTRICAL ELECTRONICS ENGINEERS INC
誌名:	JOURNAL OF MICROELECTROMECHANICAL SYSTEMS
巻:	19
号:	5
開始ページ:	1058
終了ページ:	1069
URI:	http://hdl.handle.net/2433/146623
DOI(出版社版):	10.1109/JMEMS.2010.2067202
リンク:	Web of Science
出現コレクション:	英文論文データベース

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