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| タイトル: | A three-dimensional microstructuring technique exploiting the positive photoresist property |
| 著者: | Hirai, Yoshikazu    https://orcid.org/0000-0003-0835-7314 (unconfirmed)Sugano, Koji Tsuchiya, Toshiyuki https://orcid.org/0000-0002-7846-5831 (unconfirmed)Tabata, Osamu |
| 発行日: | 2010 |
| 出版者: | IOP PUBLISHING LTD |
| 誌名: | JOURNAL OF MICROMECHANICS AND MICROENGINEERING |
| 巻: | 20 |
| 号: | 6 |
| 論文番号: | 65005 |
| URI: | http://hdl.handle.net/2433/146624 |
| DOI(出版社版): | 10.1088/0960-1317/20/6/065005 |
| リンク: | Web of Science |
| 出現コレクション: | 英文論文データベース |
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