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| タイトル: | Anisotropic Etching Using Reactive Cluster Beams |
| 著者: | Koike, Kunihiko Yoshino, Yu Senoo, Takehiko Seki, Toshio    https://orcid.org/0000-0002-0834-1657 (unconfirmed)Ninomiya, Satoshi Aoki, Takaaki https://orcid.org/0000-0002-5926-4903 (unconfirmed)Matsuo, Jiro https://orcid.org/0000-0003-0684-3677 (unconfirmed) |
| 発行日: | 2010 |
| 出版者: | JAPAN SOC APPLIED PHYSICS |
| 誌名: | APPLIED PHYSICS EXPRESS |
| 巻: | 3 |
| 号: | 12 |
| 論文番号: | 126501 |
| URI: | http://hdl.handle.net/2433/146736 |
| DOI(出版社版): | 10.1143/APEX.3.126501 |
| リンク: | Web of Science |
| 出現コレクション: | 英文論文データベース |
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