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タイトル: Contrast matching of an Si substrate with polymer films by anomalous dispersion at the Si
著者: Okuda, Hiroshi  kyouindb  KAKEN_id  orcid https://orcid.org/0000-0001-7866-4876 (unconfirmed)
Takeshita, Kohki
Ochiai, Shojiro  KAKEN_id
Kitajima, Yoshinori
Sakurai, Shinichi
Ogawa, Hiroki  kyouindb  KAKEN_id
著者名の別形: 奥田, 浩司
キーワード: grazing-incidence small-angle X-ray scattering
anomalous scattering
block copolymers
soft X-rays
発行日: Feb-2012
出版者: International Union of Crystallography
誌名: Journal of Applied Crystallography
巻: 45
号: 1
開始ページ: 119
終了ページ: 121
抄録: Anomalous dispersion at the Si K absorption edge has been used to control the reflection from the interface between a film and an Si substrate, which otherwise complicates the nanostructure analysis of such a film, particularly for the soft-matter case, in grazing-incidence small-angle scattering. Such a reflectionless condition has been chosen for a triblock copolymer thin film, and two-dimensional grazing-incidence small-angle scattering patterns were obtained without the effect of the reflection. The present approach is useful for analysing nanostructures without introducing complicated corrections arising from the reflection.
著作権等: © 2012 International Union of Crystallography
URI: http://hdl.handle.net/2433/153285
DOI(出版社版): 10.1107/S002188981105206X
出現コレクション:学術雑誌掲載論文等

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