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|---|---|---|---|---|
| 1.4874309.pdf | 11.59 MB | Adobe PDF | 見る/開く |
| タイトル: | Surface roughening and rippling during plasma etching of silicon: Numerical investigations and a comparison with experiments |
| 著者: | Tsuda, Hirotaka Nakazaki, Nobuya Takao, Yoshinori Eriguchi, Koji    https://orcid.org/0000-0003-1485-5897 (unconfirmed)Ono, Kouichi |
| 著者名の別形: | 斧, 高一 |
| 発行日: | May-2014 |
| 出版者: | American Institute of Physics |
| 誌名: | Journal of Vacuum Science & Technology B |
| 巻: | 32 |
| 号: | 3 |
| 論文番号: | 031212 |
| 著作権等: | Copyright 2014 American Vacuum Society. This article may be downloaded for personal use only. Any other use requires prior permission of the author and the American Institute of Physics. |
| URI: | http://hdl.handle.net/2433/193618 |
| DOI(出版社版): | 10.1116/1.4874309 |
| 出現コレクション: | 学術雑誌掲載論文等 |
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