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| ファイル | 記述 | サイズ | フォーマット | |
|---|---|---|---|---|
| 1.5041846.pdf | 7.03 MB | Adobe PDF | 見る/開く |
| タイトル: | Origin of plasma-induced surface roughening and ripple formation during plasma etching: The crucial role of ion reflection |
| 著者: | Hatsuse, Takumi Nakazaki, Nobuya Tsuda, Hirotaka Takao, Yoshinori Eriguchi, Koji    https://orcid.org/0000-0003-1485-5897 (unconfirmed)Ono, Kouichi |
| 著者名の別形: | 初瀬, 巧 中崎, 暢也 津田, 博隆 鷹尾, 祥典 江利口, 浩二 斧, 高一 |
| 発行日: | 14-Oct-2018 |
| 出版者: | AIP Publishing |
| 誌名: | Journal of Applied Physics |
| 巻: | 124 |
| 号: | 14 |
| 論文番号: | 143301 |
| 著作権等: | The following article appeared in 'Journal of Applied Physics 124, 143301 (2018)' and may be found at https://aip.scitation.org/doi/10.1063/1.5041846. The full-text file will be made open to the public on 14 October 2019 in accordance with publisher's 'Terms and Conditions for Self-Archiving' |
| URI: | http://hdl.handle.net/2433/234709 |
| DOI(出版社版): | 10.1063/1.5041846 |
| 出現コレクション: | 学術雑誌掲載論文等 |
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