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ApplPhysLett_87_051912.pdf123.98 kBAdobe PDF見る/開く
タイトル: Characterization of in-grown stacking faults in 4H-SiC (0001) epitaxial layers and its impacts on high-voltage Schottky barrier diodes
著者: Fujiwara, H
Kimoto, T  kyouindb  KAKEN_id  orcid https://orcid.org/0000-0002-6649-2090 (unconfirmed)
Tojo, T
Matsunami, H
発行日: 1-Aug-2005
出版者: American Institute of Physics
引用: H. Fujiwara et al., Appl. Phys. Lett. 87, 051912 (2005)
誌名: Applied Physics Letters
巻: 87
号: 5
論文番号: 051912
著作権等: Copyright 2005 American Institute of Physics. This article may be downloaded for personal use only. Any other use requires prior permission of the author and the American Institute of Physics.
URI: http://hdl.handle.net/2433/24192
DOI(出版社版): 10.1063/1.1997277
リンク: Web of Science
関連リンク: http://link.aip.org/link/?apl/87/051912
出現コレクション:学術雑誌掲載論文等

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