このアイテムのアクセス数: 448
このアイテムのファイル:
| ファイル | 記述 | サイズ | フォーマット | |
|---|---|---|---|---|
| dkogk05088.pdf | Dissertation_全文 | 4.74 MB | Adobe PDF | 見る/開く |
| ykogk05088.pdf | Abstract_要旨 | 320.09 kB | Adobe PDF | 見る/開く |
| タイトル: | Chemical Etching of Semiconductors Assisted by Graphene Oxide |
| その他のタイトル: | 酸化グラフェンを触媒として用いた新規半導体加工法の開発 |
| 著者: | Kubota, Wataru |
| 著者名の別形: | 窪田, 航 |
| キーワード: | 酸化グラフェン エッチング 触媒 シリコン InP |
| 発行日: | 23-Mar-2023 |
| 出版者: | Kyoto University |
| 学位授与大学: | 京都大学 |
| 学位の種類: | 新制・課程博士 |
| 取得分野: | 博士(工学) |
| 報告番号: | 甲第24582号 |
| 学位記番号: | 工博第5088号 |
| metadata.dc.date.granted: | 2023-03-23 |
| 請求記号: | 新制||工||1974(附属図書館) |
| 研究科・専攻: | 京都大学大学院工学研究科材料工学専攻 |
| 論文調査委員: | (主査)教授 杉村 博之, 教授 邑瀬 邦明, 教授 宇田 哲也 |
| 学位授与の要件: | 学位規則第4条第1項該当 |
| 著作権等: | 2019年5月発行 Japanese Journal of Applied Physics第58巻050924 1-4頁に掲載 Chemical etching of silicon assisted by graphene oxide DOI:10.7567/1347-4065/ab17f3 2021年7月発行 Langmuir第37巻9920-9926頁に掲載 Chemical Etching of Silicon Assisted by Graphene Oxide in an HF−HNO3 Solution and Its Catalytic Mechanism DOI:10.1021/acs.langmuir.1c01681 2022年8月発行 ACS Applied Nano Materials第5巻11707-11714頁に掲載 Vapor-Phase Chemical Etching of Silicon Assisted by Graphene Oxide for Microfabrication and Microcontact Printing DOI：10.1021/acsanm.2c02690 2020年4月発行 Japanese Journal of Applied Physics第59巻SN1001 1-5頁に掲載 Local current mapping of electrochemically-exfoliated graphene oxide by conductive AFM DOI:10.35848/1347-4065/ab80df |
| DOI: | 10.14989/doctor.k24582 |
| URI: | http://hdl.handle.net/2433/283701 |
| 出現コレクション: | 090 博士(工学) |
このリポジトリに保管されているアイテムはすべて著作権により保護されています。