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タイトル: Doping-dependent fixed charges in SiC/SiO₂ structure
著者: Mikami, Kyota
Kaneko, Mitsuaki  kyouindb  KAKEN_id  orcid https://orcid.org/0000-0001-5629-0105 (unconfirmed)
Kimoto, Tsunenobu  kyouindb  KAKEN_id  orcid https://orcid.org/0000-0002-6649-2090 (unconfirmed)
著者名の別形: 三上, 杏太
金子, 光顕
木本, 恒暢
発行日: Mar-2025
出版者: IOP Publishing
The Japan Society of Applied Physics
誌名: Applied Physics Express
巻: 18
号: 3
論文番号: 034002
抄録: Doping-dependent fixed charges were found in SiC/SiO₂ structures through a study on threshold voltage in both n- and p-channel SiC metal-oxide-semiconductor field-effect transistors (MOSFETs) with various body doping concentrations. Positive fixed charges increase for the p-body (n-channel) devices and negative fixed charges increase for the n-body (p-channel) devices, both of which retard the increase of threshold voltage in MOSFETs with increasing the body doping.
著作権等: © 2025 The Author(s). Published on behalf of The Japan Society of Applied Physics by IOP Publishing Ltd
Content from this work may be used under the terms of the Creative Commons Attribution 4.0 license. Any further distribution of this work must maintain attribution to the author(s) and the title of the work, journal citation and DOI.
URI: http://hdl.handle.net/2433/293013
DOI(出版社版): 10.35848/1882-0786/adb539
出現コレクション:学術雑誌掲載論文等

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