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| タイトル: | Rate analysis of chemical vapor deposition by use of the thin tubular reactor |
| 著者: | Kawase, M    https://orcid.org/0000-0003-1850-0030 (unconfirmed)Miura, K |
| キーワード: | chemical vapor deposition thin tubular reactor rate analysis pyrolytic carbon ethylene |
| 発行日: | 2006 |
| 出版者: | ELSEVIER SCIENCE SA |
| 誌名: | THIN SOLID FILMS |
| 巻: | 498 |
| 号: | 1-2 |
| 開始ページ: | 25 |
| 終了ページ: | 29 |
| URI: | http://hdl.handle.net/2433/34887 |
| DOI(出版社版): | 10.1016/j.tsf.2005.07.057 |
| リンク: | Web of Science |
| 出現コレクション: | 英文論文データベース |
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