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| タイトル: | Formation of silver nanoparticles aligned near the bottom of SiO2 film silicon substrate by negative-ion implantation and post-annealing |
| 著者: | Arai, N Tsuji, H  Ueno, K Matsumoto, T Gotoh, N Aadachi, K Kotaki, H Gotoh, Y  Ishikawa, J |
| キーワード: | nanoparticles mono-layered nanoparticles negative ion ion implantation |
| 発行日: | 2006 |
| 出版者: | ELSEVIER SCIENCE BV |
| 誌名: | NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS |
| 巻: | 242 |
| 号: | 1-2 |
| 開始ページ: | 217 |
| 終了ページ: | 220 |
| URI: | http://hdl.handle.net/2433/35037 |
| DOI(出版社版): | 10.1016/j.nimb.2005.08.018 |
| リンク: | Web of Science |
| 出現コレクション: | 英文論文データベース |
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