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| タイトル: | Si emission from the SiO2/Si interface during the growth of SiO2 in the HfO2/SiO2/Si structure |
| 著者: | Ming, Z Nakajima, K    https://orcid.org/0000-0002-5390-1262 (unconfirmed)Suzuki, M https://orcid.org/0000-0002-6473-9141 (unconfirmed)Kimura, K Uematsu, M Torii, K Kamiyama, S Nara, Y Yamada, K |
| 発行日: | 2006 |
| 出版者: | AMER INST PHYSICS |
| 誌名: | APPLIED PHYSICS LETTERS |
| 巻: | 88 |
| 号: | 15 |
| 論文番号: | 153516 |
| URI: | http://hdl.handle.net/2433/35113 |
| DOI(出版社版): | 10.1063/1.2195101 |
| リンク: | Web of Science |
| 出現コレクション: | 英文論文データベース |
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