Lattice distortion at SiO2/Si(001) interface studied with high-resolution rutherford backscattering spectroscopy/channeling

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http://hdl.handle.net/2433/35164

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タイトル:	Lattice distortion at SiO2/Si(001) interface studied with high-resolution rutherford backscattering spectroscopy/channeling
著者:	Nakajima, K https://orcid.org/0000-0002-5390-1262 (unconfirmed) Suzuki, M https://orcid.org/0000-0002-6473-9141 (unconfirmed) Kimura, K Yamamoto, M Teramoto, A Ohmi, T Hattori, T
キーワード:	lattice distortion silicon SiO2 interface high-resolution RBS channeling
発行日:	2006
出版者:	INST PURE APPLIED PHYSICS
誌名:	JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS
巻:	45
号:	4A
開始ページ:	2467
終了ページ:	2469
URI:	http://hdl.handle.net/2433/35164
DOI(出版社版):	10.1143/JJAP.45.2467
リンク:	Web of Science
出現コレクション:	英文論文データベース

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