このアイテムのアクセス数: 0
このアイテムのファイル:
このアイテムに関連するファイルはありません。
| タイトル: | Fabrication of indium phosphide compound photonic crystal by hydrogen iodide/xenon inductively coupled plasma etching |
| 著者: | Fujita, M Sugitatsu, A Uesugi, T Noda, S    https://orcid.org/0000-0003-4302-0549 (unconfirmed) |
| キーワード: | dry etching GaInAsP hydrogen iodide (HI) indium phosphide (InP) inductively coupled plasma (ICP) microfabrication photonic crystal |
| 発行日: | 2004 |
| 出版者: | INST PURE APPLIED PHYSICS |
| 誌名: | JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS & EXPRESS LETTERS |
| 巻: | 43 |
| 号: | 11A |
| 開始ページ: | L1400 |
| 終了ページ: | L1402 |
| URI: | http://hdl.handle.net/2433/3528 |
| DOI(出版社版): | 10.1143/JJAP.43.L1400 |
| リンク: | Web of Science |
| 出現コレクション: | 英文論文データベース |
このリポジトリに保管されているアイテムはすべて著作権により保護されています。