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タイトル: | The analysis of a thin SiO2/Si3N4/SiO2 stack: A comparative study of low-energy heavy ion elastic recoil detection, high-resolution Rutherford backscattering, and secondary ion mass spectrometry |
著者: | Brijs, B Sajavaara, T Giangrandi, S Janssens, T Conard, T Arstila, K Nakajima, K ![]() ![]() ![]() Kimura, K ![]() Bergmaier, A Dollinger, G Vantomme, A Vandervorst, W |
キーワード: | ERDA thin film analysis light elements microelectronics |
発行日: | 2006 |
出版者: | ELSEVIER SCIENCE BV |
誌名: | NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS |
巻: | 249 |
号: | 1-2 |
開始ページ: | 847 |
終了ページ: | 850 |
URI: | http://hdl.handle.net/2433/35489 |
DOI(出版社版): | 10.1016/j.nimb.2006.03.191 |
リンク: | Web of Science |
出現コレクション: | 英文論文データベース |

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