High-intensity Si cluster ion emission from a silicon target bombarded with large Ar cluster ions

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http://hdl.handle.net/2433/35611

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タイトル:	High-intensity Si cluster ion emission from a silicon target bombarded with large Ar cluster ions
著者:	Ninomiya, S Aoki, T https://orcid.org/0000-0002-5926-4903 (unconfirmed) Seki, T https://orcid.org/0000-0002-0834-1657 (unconfirmed) Matsuo, J https://orcid.org/0000-0003-0684-3677 (unconfirmed)
キーワード:	Ar cluster ion secondary ion low energy sputtering yield
発行日:	2006
出版者:	ELSEVIER SCIENCE BV
誌名:	APPLIED SURFACE SCIENCE
巻:	252
号:	19
開始ページ:	6550
終了ページ:	6553
URI:	http://hdl.handle.net/2433/35611
DOI(出版社版):	10.1016/j.apsusc.2006.02.100
リンク:	Web of Science
出現コレクション:	英文論文データベース

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