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| タイトル: | Organic monolayers covalently bonded to Si as ultra thin photoresist films in vacuum UV lithography |
| 著者: | Sugimura, H  Sano, H Lee, KH Murase, K   https://orcid.org/0000-0002-7564-9416 (unconfirmed) |
| キーワード: | photolithography micropatterning vacuum ultraviolet light excimer lamp self-assembled monolayer silicon |
| 発行日: | 2006 |
| 出版者: | INST PURE APPLIED PHYSICS |
| 誌名: | JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS |
| 巻: | 45 |
| 号: | 6B |
| 開始ページ: | 5456 |
| 終了ページ: | 5460 |
| URI: | http://hdl.handle.net/2433/35651 |
| DOI(出版社版): | 10.1143/JJAP.45.5456 |
| リンク: | Web of Science |
| 出現コレクション: | 英文論文データベース |
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