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| タイトル: | Self-aligned formation of a vertical-type micro field emitter with a volcano-shaped gate electrode protruding towards the cathode by focused ion-beam sputter etching and deposition |
| 著者: | Gotoh, Y   Fujita, N Tsuji, H Ishikawa, J Nagamachi, S Ueda, M |
| 発行日: | 1999 |
| 出版者: | IOP PUBLISHING LTD |
| 誌名: | JOURNAL OF MICROMECHANICS AND MICROENGINEERING |
| 巻: | 9 |
| 号: | 4 |
| 開始ページ: | 364 |
| 終了ページ: | 368 |
| URI: | http://hdl.handle.net/2433/3672 |
| DOI(出版社版): | 10.1088/0960-1317/9/4/313 |
| リンク: | Web of Science |
| 出現コレクション: | 英文論文データベース |
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