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| タイトル: | Reduction of the C49 -> C54 phase transformation temperature in co-sputtered TiSi2 thin films by ternary alloying |
| 著者: | Hashimoto, T Inui, H    https://orcid.org/0000-0003-0835-6725 (unconfirmed)Tanaka, K Yamaguchi, M |
| キーワード: | titanium silicides electrical resistance and other electrical properties phase transformation microstructure |
| 発行日: | 2003 |
| 出版者: | ELSEVIER SCI LTD |
| 誌名: | INTERMETALLICS |
| 巻: | 11 |
| 号: | 5 |
| 開始ページ: | 417 |
| 終了ページ: | 424 |
| URI: | http://hdl.handle.net/2433/3794 |
| DOI(出版社版): | 10.1016/S0966-9795(03)00022-0 |
| リンク: | Web of Science |
| 出現コレクション: | 英文論文データベース |
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