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| ファイル | 記述 | サイズ | フォーマット | |
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| PhysRevB_69_035106.pdf | 103.76 kB | Adobe PDF | 見る/開く |
| タイトル: | Correlation between chemical shift of SiK alpha lines and the effective charge on the Si atom and its application in the Fe-Si binary system |
| 著者: | Liu, ZL Sugata, S Yuge, K   Nagasono, M Tanaka, K Kawai, J  https://orcid.org/0000-0002-1289-7666 (unconfirmed) |
| 発行日: | Jan-2004 |
| 出版者: | AMERICAN PHYSICAL SOC |
| 誌名: | PHYSICAL REVIEW B |
| 巻: | 69 |
| 号: | 3 |
| 論文番号: | 035106 |
| 著作権等: | Copyright 2004 American Physical Society |
| URI: | http://hdl.handle.net/2433/39862 |
| DOI(出版社版): | 10.1103/PhysRevB.69.035106 |
| 関連リンク: | http://link.aps.org/abstract/PRB/v69/p035106 |
| 出現コレクション: | 学術雑誌掲載論文等 |
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