Defect and electronic structures in TiSi2 thin films produced by co-sputtering part 1: Defect analysis by transmission electron microscopy

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http://hdl.handle.net/2433/4226

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タイトル:	Defect and electronic structures in TiSi2 thin films produced by co-sputtering part 1: Defect analysis by transmission electron microscopy
著者:	Inui, H https://orcid.org/0000-0003-0835-6725 (unconfirmed) Hashimoto, T Tanaka, K Tanaka, I https://orcid.org/0000-0002-4616-118X (unconfirmed) Mizoguchi, T Adachi, H Yamaguchi, M
キーワード:	sputtering transmission electron microscopy (TEM) phase transformations lattice defects transition-metal disilicide
発行日:	2001
出版者:	PERGAMON-ELSEVIER SCIENCE LTD
誌名:	ACTA MATERIALIA
巻:	49
号:	1
開始ページ:	83
終了ページ:	92
URI:	http://hdl.handle.net/2433/4226
DOI(出版社版):	10.1016/S1359-6454(00)00296-2
リンク:	Web of Science
出現コレクション:	英文論文データベース

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