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| タイトル: | Silicon field emission array as novel charge neutralization device for high current ion implanter |
| 著者: | Ishikawa, J Gotoh, Y   Nakamura, K Kojima, T Tsuji, H Ikejiri, T Sakai, S Umisedo, S Nagai, N Nagao, M Kanemaru, S |
| キーワード: | ion implantation wafer charging charge neutralization space charge field emission arrays energy distribution |
| 発行日: | 2005 |
| 出版者: | ELSEVIER SCIENCE BV |
| 誌名: | NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS |
| 巻: | 237 |
| 号: | 1-2 |
| 開始ページ: | 390 |
| 終了ページ: | 394 |
| URI: | http://hdl.handle.net/2433/4271 |
| DOI(出版社版): | 10.1016/j.nimb.2005.05.033 |
| リンク: | Web of Science |
| 出現コレクション: | 英文論文データベース |
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