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| タイトル: | Effect of rapid thermal annealing on Al doped n-ZnO films grown by RF-magnetron sputtering |
| 著者: | Kim, KK Tampo, H Song, JO Seong, TY Park, SJ Lee, JM Kim, SW Fujita, S    https://orcid.org/0000-0001-6384-6693 (unconfirmed)Niki, S |
| キーワード: | rapid thermal annealing dopant activation photoluminescence Hall measurements n-type ZnO |
| 発行日: | 2005 |
| 出版者: | INST PURE APPLIED PHYSICS |
| 誌名: | JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS |
| 巻: | 44 |
| 号: | 7A |
| 開始ページ: | 4776 |
| 終了ページ: | 4779 |
| URI: | http://hdl.handle.net/2433/4826 |
| DOI(出版社版): | 10.1143/JJAP.44.4776 |
| リンク: | Web of Science |
| 出現コレクション: | 英文論文データベース |
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