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タイトル: Reduction of doping and trap concentrations in 4H-SiC epitaxial layers grown by chemical vapor deposition
著者: Kimoto, T  kyouindb  KAKEN_id  orcid https://orcid.org/0000-0002-6649-2090 (unconfirmed)
Nakazawa, S
Hashimoto, K
Matsunami, H
発行日: 2001
出版者: AMER INST PHYSICS
誌名: APPLIED PHYSICS LETTERS
巻: 79
号: 17
開始ページ: 2761
終了ページ: 2763
URI: http://hdl.handle.net/2433/4866
DOI(出版社版): 10.1063/1.1413724
リンク: Web of Science
出現コレクション:英文論文データベース

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