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タイトル: Compositional transition layer in SiO2/Si interface observed by high-resolution RBS
著者: Kimura, K  KAKEN_id
Nakajima, K  kyouindb  KAKEN_id  orcid https://orcid.org/0000-0002-5390-1262 (unconfirmed)
キーワード: SiO2/Si
transition layer
high-resolution
Rutherford backscattering spectroscopy
energy loss straggling
発行日: 2003
出版者: ELSEVIER SCIENCE BV
誌名: APPLIED SURFACE SCIENCE
巻: 216
号: 1-4
開始ページ: 283
終了ページ: 286
URI: http://hdl.handle.net/2433/4881
DOI(出版社版): 10.1016/S0169-4332(03)00386-6
リンク: Web of Science
出現コレクション:英文論文データベース

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