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| タイトル: | SIMS and high-resolution RBS analysis of ultrathin SiOxNy films |
| 著者: | Kimura, K  Nakajima, K   https://orcid.org/0000-0002-5390-1262 (unconfirmed)Kobayashi, H Miwa, S Satori, K |
| キーワード: | SIMS high-resolution RBS silicon oxinitride RSF matrix effect |
| 発行日: | 2003 |
| 出版者: | ELSEVIER SCIENCE BV |
| 誌名: | APPLIED SURFACE SCIENCE |
| 巻: | 203 |
| 開始ページ: | 418 |
| 終了ページ: | 422 |
| URI: | http://hdl.handle.net/2433/4883 |
| DOI(出版社版): | 10.1016/S0169-4332(02)00692-X |
| リンク: | Web of Science |
| 出現コレクション: | 英文論文データベース |
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