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完全メタデータレコード
| DCフィールド | 値 | 言語 |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | Kimura, K | en |
| dc.contributor.author | Nakajima, K | en |
| dc.contributor.author | Kobayashi, H | en |
| dc.contributor.author | Miwa, S | en |
| dc.contributor.author | Satori, K | en |
| dc.date.accessioned | 2007-03-28T03:39:46Z | - |
| dc.date.available | 2007-03-28T03:39:46Z | - |
| dc.date.issued | 2003 | - |
| dc.identifier.issn | 0169-4332 | - |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/2433/4883 | - |
| dc.language.iso | eng | - |
| dc.publisher | ELSEVIER SCIENCE BV | en |
| dc.subject | SIMS | en |
| dc.subject | high-resolution RBS | en |
| dc.subject | silicon oxinitride | en |
| dc.subject | RSF | en |
| dc.subject | matrix effect | en |
| dc.title | SIMS and high-resolution RBS analysis of ultrathin SiOxNy films | en |
| dc.type | journal article | - |
| dc.type.niitype | Journal Article | - |
| dc.identifier.jtitle | APPLIED SURFACE SCIENCE | en |
| dc.identifier.volume | 203 | - |
| dc.identifier.spage | 418 | - |
| dc.identifier.epage | 422 | - |
| dc.relation.doi | 10.1016/S0169-4332(02)00692-X | - |
| dc.textversion | none | - |
| dcterms.accessRights | metadata only access | - |
| 出現コレクション: | 英文論文データベース | |
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