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| タイトル: | Nitrogen depth profiling in ultrathin silicon oxynitride films with high-resolution rutherford backscattering spectroscopy |
| 著者: | Kimura, K  Nakajima, K   https://orcid.org/0000-0002-5390-1262 (unconfirmed)Okazaki, Y Kobayashi, H Miwa, S Satori, K |
| キーワード: | silicon oxynitride ultrathin film nitrogen depth profile RBS high-resolution SIMS AES |
| 発行日: | 2000 |
| 出版者: | JAPAN J APPLIED PHYSICS |
| 誌名: | JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS |
| 巻: | 39 |
| 号: | 7B |
| 開始ページ: | 4663 |
| 終了ページ: | 4665 |
| URI: | http://hdl.handle.net/2433/4885 |
| DOI(出版社版): | 10.1143/JJAP.39.4663 |
| リンク: | Web of Science |
| 出現コレクション: | 英文論文データベース |
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