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| タイトル: | High-resolution depth profiling of ultrashallow boron implants in silicon using high-resolution RBS |
| 著者: | Kimura, K  Oota, Y Nakajima, K   https://orcid.org/0000-0002-5390-1262 (unconfirmed)Buyuklimanli, TH |
| キーワード: | RBS high-resolution ultrashallow implantation boron profiling |
| 発行日: | 2003 |
| 出版者: | ELSEVIER SCIENCE BV |
| 誌名: | CURRENT APPLIED PHYSICS |
| 巻: | 3 |
| 号: | 1 |
| 開始ページ: | 9 |
| 終了ページ: | 11 |
| URI: | http://hdl.handle.net/2433/4888 |
| DOI(出版社版): | 10.1016/S1567-1739(02)00227-4 |
| リンク: | Web of Science |
| 出現コレクション: | 英文論文データベース |
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