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タイトル: Molecular effect on projected range in ultralow-energy ion implantation
著者: Kimura, K  KAKEN_id
Oota, Y
Nakajima, K  kyouindb  KAKEN_id  orcid https://orcid.org/0000-0002-5390-1262 (unconfirmed)
Suzuki, M  kyouindb  KAKEN_id  orcid https://orcid.org/0000-0002-6473-9141 (unconfirmed)
Aoki, T  KAKEN_id  orcid https://orcid.org/0000-0002-5926-4903 (unconfirmed)
Matsuo, J  KAKEN_id  orcid https://orcid.org/0000-0003-0684-3677 (unconfirmed)
Agarwal, A
Freer, B
Stevenson, A
Ameen, M
キーワード: molecular effect
projected range
ultralow-energy ion implantation
high-resolution Rutherford backscattering spectroscopy
発行日: 2003
出版者: ELSEVIER SCIENCE BV
誌名: NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS
巻: 211
号: 2
開始ページ: 206
終了ページ: 210
URI: http://hdl.handle.net/2433/4889
DOI(出版社版): 10.1016/S0168-583X(03)01249-7
リンク: Web of Science
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