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| RevSciInstrum_77_03B508.pdf | 76.22 kB | Adobe PDF | 見る/開く |
| タイトル: | Surface cleaning and modification of Si(100) substrates by ethanol and water cluster ion beams |
| 著者: | Takaoka, GH Noguchi, H Nakayama, K Seki, T    https://orcid.org/0000-0002-0834-1657 (unconfirmed)Kawashita, M |
| 発行日: | Mar-2006 |
| 出版者: | AMER INST PHYSICS |
| 誌名: | REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS |
| 巻: | 77 |
| 号: | 3 |
| 論文番号: | 03B508 |
| 著作権等: | Copyright 2006 American Institute of Physics. This article may be downloaded for personal use only. Any other use requires prior permission of the author and the American Institute of Physics. |
| URI: | http://hdl.handle.net/2433/50110 |
| DOI(出版社版): | 10.1063/1.2172342 |
| 関連リンク: | http://link.aip.org/link/?rsi/77/03B508 |
| 出現コレクション: | 学術雑誌掲載論文等 |
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