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| タイトル: | Deposition of vanadium carbide thin films using compound target sputtering and their field emission |
| 著者: | Liao, MY Gotoh, Y   Tsuji, H Ishikawa, J |
| 発行日: | 2005 |
| 出版者: | A V S AMER INST PHYSICS |
| 誌名: | JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A |
| 巻: | 23 |
| 号: | 5 |
| 開始ページ: | 1379 |
| 終了ページ: | 1383 |
| URI: | http://hdl.handle.net/2433/5303 |
| DOI(出版社版): | 10.1116/1.2008273 |
| リンク: | Web of Science |
| 出現コレクション: | 英文論文データベース |
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