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KJ00000017678.pdf | 435.81 kB | Adobe PDF | 見る/開く |
タイトル: | Photochemical Dimerization of Resin Acids |
著者: | ENOKI, Akio KITAO, Koichiro |
発行日: | 31-Aug-1974 |
出版者: | Wood Research Institute, Kyoto University |
誌名: | Wood research : bulletin of the Wood Research Institute Kyoto University |
巻: | 57 |
開始ページ: | 1 |
終了ページ: | 9 |
抄録: | Ultraviolet irradiation of levopimaric acid with a sensitizer gave dimer (II), 8, 12-bridged valence tautomer (III) and dehydroabietic acid (VI). The yield of the dimer (III) increased with increasing amount of the sensitizer. Ultraviolet irradiation of abietic acid (IV) either with or without the sensitizer gave dimer (V), although the reaction with the sensitizer was more rapid. The dimer (II) of levopimaric acid was thermally stable and had a high melting point (above 300℃), while the dimer (V) of abietic acid was thermally unstable and regenerated abietic acid when heated at 70℃. |
記述: | この論文は国立情報学研究所の学術雑誌公開支援事業により電子化されました。 |
URI: | http://hdl.handle.net/2433/53385 |
出現コレクション: | No.57 |
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