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| タイトル: | Surface segregation of Ge during Si growth on Ge/Si(001) at low temperature observed by high-resolution RBS |
| 著者: | Nakajima, K    https://orcid.org/0000-0002-5390-1262 (unconfirmed)Hosaka, N Hattori, T Kimura, K |
| キーワード: | delta doping surface segregation high-resolution RBS Si(001) germanium |
| 発行日: | 2002 |
| 出版者: | ELSEVIER SCIENCE BV |
| 誌名: | NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS |
| 巻: | 190 |
| 開始ページ: | 587 |
| 終了ページ: | 591 |
| URI: | http://hdl.handle.net/2433/6116 |
| DOI(出版社版): | 10.1016/S0168-583X(01)01257-5 |
| リンク: | Web of Science |
| 出現コレクション: | 英文論文データベース |
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