Strain profiling of HfO2/Si(001) interface with high-resolution Rutherford backscattering spectroscopy

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http://hdl.handle.net/2433/6118

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タイトル:	Strain profiling of HfO2/Si(001) interface with high-resolution Rutherford backscattering spectroscopy
著者:	Nakajima, K https://orcid.org/0000-0002-5390-1262 (unconfirmed) Joumori, S Suzuki, M https://orcid.org/0000-0002-6473-9141 (unconfirmed) Kimura, K Osipowicz, T Tok, KL Zheng, JZ See, A Zhang, BC
発行日:	2003
出版者:	AMER INST PHYSICS
誌名:	APPLIED PHYSICS LETTERS
巻:	83
号:	2
開始ページ:	296
終了ページ:	298
URI:	http://hdl.handle.net/2433/6118
DOI(出版社版):	10.1063/1.1592310
リンク:	Web of Science
出現コレクション:	英文論文データベース

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