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タイトル: | Oxidation of Si(001) surfaces studied by high-resolution rutherford backscattering spectroscopy |
著者: | Nakajima, K ![]() ![]() ![]() Okazaki, Y Kimura, K ![]() |
キーワード: | silicon oxidation Si(001) high-resolution RBS oxygen coverage oxygen depth profile |
発行日: | 2000 |
出版者: | JAPAN J APPLIED PHYSICS |
誌名: | JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS |
巻: | 39 |
号: | 7B |
開始ページ: | 4481 |
終了ページ: | 4482 |
URI: | http://hdl.handle.net/2433/6123 |
DOI(出版社版): | 10.1143/JJAP.39.4481 |
リンク: | Web of Science |
出現コレクション: | 英文論文データベース |

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