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タイトル: Oxidation of Si(001) surfaces studied by high-resolution rutherford backscattering spectroscopy
著者: Nakajima, K  kyouindb  KAKEN_id  orcid https://orcid.org/0000-0002-5390-1262 (unconfirmed)
Okazaki, Y
Kimura, K  KAKEN_id
キーワード: silicon oxidation
Si(001)
high-resolution RBS
oxygen coverage
oxygen depth profile
発行日: 2000
出版者: JAPAN J APPLIED PHYSICS
誌名: JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS
巻: 39
号: 7B
開始ページ: 4481
終了ページ: 4482
URI: http://hdl.handle.net/2433/6123
DOI(出版社版): 10.1143/JJAP.39.4481
リンク: Web of Science
出現コレクション:英文論文データベース

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