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| タイトル: | Anomalous surface amorphization of Si(001) induced by 3-5 keV Ar+ ion bombardment |
| 著者: | Nakajima, K    https://orcid.org/0000-0002-5390-1262 (unconfirmed)Toyofuku, H Kimura, K |
| キーワード: | ultralow energy ion implantation amorphization defect high-resolution RBS |
| 発行日: | 2001 |
| 出版者: | INST PURE APPLIED PHYSICS |
| 誌名: | JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS |
| 巻: | 40 |
| 号: | 4A |
| 開始ページ: | 2119 |
| 終了ページ: | 2122 |
| URI: | http://hdl.handle.net/2433/6126 |
| DOI(出版社版): | 10.1143/JJAP.40.2119 |
| リンク: | Web of Science |
| 出現コレクション: | 英文論文データベース |
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