ダウンロード数: 0

このアイテムのファイル:
このアイテムに関連するファイルはありません。
タイトル: High-sensitivity analysis of Z(1) center concentration in 4H-SiC grown by horizontal cold-wall chemical vapor deposition
著者: Nakamura, S
Kimoto, T  kyouindb  KAKEN_id  orcid https://orcid.org/0000-0002-6649-2090 (unconfirmed)
Matsunami, H
キーワード: silicon carbide (SiC)
chemical vapor deposition (CVD)
deep-level transient spectroscopy (DLTS)
deep-level transient Fourier spectroscopy (DLTFS)
Z(1) center
発行日: 2002
出版者: INST PURE APPLIED PHYSICS
誌名: JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS
巻: 41
号: 5A
開始ページ: 2987
終了ページ: 2988
URI: http://hdl.handle.net/2433/6145
DOI(出版社版): 10.1143/JJAP.41.2987
リンク: Web of Science
出現コレクション:英文論文データベース

アイテムの詳細レコードを表示する

Export to RefWorks


出力フォーマット 


このリポジトリに保管されているアイテムはすべて著作権により保護されています。