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タイトル: | Rate-determining process in chemical vapor deposition of SiC on off-axis alpha-SiC (0001) |
著者: | Nakamura, S Kimoto, T https://orcid.org/0000-0002-6649-2090 (unconfirmed) Matsunami, H |
キーワード: | chemical vapor deposition processes semiconducting silicon compounds |
発行日: | 2004 |
出版者: | ELSEVIER SCIENCE BV |
誌名: | JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH |
巻: | 270 |
号: | 3-4 |
開始ページ: | 455 |
終了ページ: | 461 |
URI: | http://hdl.handle.net/2433/6148 |
DOI(出版社版): | 10.1016/j.jcrysgro.2004.06.049 |
リンク: | Web of Science |
出現コレクション: | 英文論文データベース |
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