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| タイトル: | Reaction mechanism of a lanthanum precursor in liquid source metalorganic chemical vapor deposition |
| 著者: | Nakamura, T    https://orcid.org/0000-0001-9008-5586 (unconfirmed)Nishimura, T Tai, R Tachibana, K |
| キーワード: | lanthanum chemical vapor deposition infrared absorption spectroscopy |
| 発行日: | 2005 |
| 出版者: | ELSEVIER SCIENCE SA |
| 誌名: | MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B-SOLID STATE MATERIALS FOR ADVANCED TECHNOLOGY |
| 巻: | 118 |
| 号: | 1-3 |
| 開始ページ: | 253 |
| 終了ページ: | 258 |
| URI: | http://hdl.handle.net/2433/6167 |
| DOI(出版社版): | 10.1016/j.mseb.2004.12.038 |
| リンク: | Web of Science |
| 出現コレクション: | 英文論文データベース |
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