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| タイトル: | Isotopic labeling study of the oxygen diffusion in HfO2/SiO2/Si |
| 著者: | Zhao, Ming Nakajima, Kaoru    https://orcid.org/0000-0002-5390-1262 (unconfirmed)Suzuki, Motofumi https://orcid.org/0000-0002-6473-9141 (unconfirmed)Kimura, Kenji Uematsu, Masashi Torii, Kazuyoshi Kamiyama, Satoshi Nara, Yasuo Watanabe, Heiji Shiraishi, Kenji Chikyow, Toyohiro Yamada, Keisaku |
| 発行日: | 2007 |
| 出版者: | AMER INST PHYSICS |
| 誌名: | APPLIED PHYSICS LETTERS |
| 巻: | 90 |
| 号: | 13 |
| 論文番号: | 133510 |
| URI: | http://hdl.handle.net/2433/67461 |
| リンク: | Web of Science |
| 出現コレクション: | 英文論文データベース |
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