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| タイトル: | Scanning capacitance microscopy for alkylsilane-monolayer-covered Si substrate patterned by scanning probe lithography |
| 著者: | Han, Jiwon Lee, Kyung-Hwang Fujii, Shosuke Sano, Hikaru Kim, Young-Jong Murase, Kumaki    https://orcid.org/0000-0002-7564-9416 (unconfirmed)Ichii, Takashi https://orcid.org/0000-0002-4021-8894 (unconfirmed)Sugimura, Hiroyuki |
| キーワード: | scanning capacitance microscopy (SCM) self-assembled monolayer (SAM) Kelvin-probe force microscopy (KFM) charge trap nanolithography |
| 発行日: | 2007 |
| 出版者: | INST PURE APPLIED PHYSICS |
| 誌名: | JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS |
| 巻: | 46 |
| 号: | 8B |
| 開始ページ: | 5621 |
| 終了ページ: | 5625 |
| URI: | http://hdl.handle.net/2433/67518 |
| DOI(出版社版): | 10.1143/JJAP.46.5621 |
| リンク: | Web of Science |
| 出現コレクション: | 英文論文データベース |
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