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| タイトル: | Plasma copolymerization of C6F6/C5F8 for application of low-dielectric-constant fluorinated amorphous carbon films and its gas-phase diagnostics using in situ Fourier transform infrared spectroscopy |
| 著者: | Shirafuji, T Tsuchino, A Nakamura, T    https://orcid.org/0000-0001-9008-5586 (unconfirmed)Tachibana, K |
| キーワード: | C6F6 C5F8 plasma chemical vapor deposition copolymerization low dielectric constant porous aromatic carbon ring thermal stability |
| 発行日: | 2004 |
| 出版者: | INST PURE APPLIED PHYSICS |
| 誌名: | JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS |
| 巻: | 43 |
| 号: | 5A |
| 開始ページ: | 2697 |
| 終了ページ: | 2703 |
| URI: | http://hdl.handle.net/2433/7300 |
| DOI(出版社版): | 10.1143/JJAP.43.2697 |
| リンク: | Web of Science |
| 出現コレクション: | 英文論文データベース |
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