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タイトル: Plasma enhanced chemical vapor deposition of fluorinated amorphous carbon films on the surface with reverse tapered microstructures
著者: Shirafuji, T
Wada, T
Kashiwagi, M
Nakamura, T  kyouindb  KAKEN_id  orcid https://orcid.org/0000-0001-9008-5586 (unconfirmed)
Tachibana, K
キーワード: C5F8
plasma
chemical vapor deposition
organic electroluminescence
passivation
diagnostics
発行日: 2003
出版者: INST PURE APPLIED PHYSICS
誌名: JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS
巻: 42
号: 7A
開始ページ: 4504
終了ページ: 4509
URI: http://hdl.handle.net/2433/7301
DOI(出版社版): 10.1143/JJAP.42.4504
リンク: Web of Science
出現コレクション:英文論文データベース

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