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| タイトル: | Interaction of SF6 cluster ion beams with Si surface |
| 著者: | Takaoka, GH Nakamura, S Seki, T    https://orcid.org/0000-0002-0834-1657 (unconfirmed)Matsuo, J https://orcid.org/0000-0003-0684-3677 (unconfirmed) |
| キーワード: | cluster ion ion beam process chemical etching silicon surface mass spectrometry |
| 発行日: | 2001 |
| 出版者: | INST PURE APPLIED PHYSICS |
| 誌名: | JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS |
| 巻: | 40 |
| 号: | 12B |
| 開始ページ: | L1384 |
| 終了ページ: | L1386 |
| URI: | http://hdl.handle.net/2433/7599 |
| DOI(出版社版): | 10.1143/JJAP.40.L1384 |
| リンク: | Web of Science |
| 出現コレクション: | 英文論文データベース |
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