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| タイトル: | Evaluation of hafnium nitride thin films sputtered from a hafnium nitride target |
| 著者: | Kanzawa, T Setojima, N Miyata, Y Gotoh, Y   Tsuji, H Ishikawa, J |
| キーワード: | Hafnium nitride Electrical resistivity Compound target rf magnetron sputtering |
| 発行日: | 2008 |
| 出版者: | PERGAMON-ELSEVIER SCIENCE LTD |
| 誌名: | VACUUM |
| 巻: | 83 |
| 号: | 3 |
| 開始ページ: | 589 |
| 終了ページ: | 591 |
| URI: | http://hdl.handle.net/2433/78584 |
| DOI(出版社版): | 10.1016/j.vacuum.2008.04.036 |
| リンク: | Web of Science |
| 出現コレクション: | 英文論文データベース |
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